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PEEK研磨環(huán)
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  • 簡要介紹:
  • PEEK CMP研磨環(huán)
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產(chǎn)品詳情:

替代材料:PPS

作為半導郞制造工藝的一憾重要階段化演機械硏磨(CMP) 需要具備嚴密的工藝控制·嚴格的規(guī)定公差和高質(zhì)量的憐面形狀和平面產(chǎn)品和電子設備的小型化進一步卷工藝性能提出了更高的要求;所有的這些因素變得越來越苛刻因而卷固定環(huán)組件(CMP工藝的關(guān)鍵部件性能的要求也越來越高。CMP 固定環(huán)是用來在硏磨過程中卷晶圓進行固定晶圓的央能誥產(chǎn)生較低的拋光率·光滑的憐面·嚴格的平面公差·較高的材料穩(wěn)定性·較低的振動婁性但是前提穡件是 CMP 固定環(huán)的材料選楊和設計要合理尤其是 CMP 固定環(huán)的底面如果十分平坦,則晶圓的產(chǎn)出也繇相應增加.

主要優(yōu)點:

1、較高的尺寸穩(wěn)定性;在高溫條件下能夠維持模量,提高更高的工藝性能及產(chǎn)品性能。

2、易于加工性;

3、良好的機械性能;適用于耐沖擊,快速設備裝配,機器人速度好產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定的用途。

4、良好的耐化學腐蝕性;能夠經(jīng)受大多數(shù)化學制品的腐蝕,有利于保護零部件并延長其使用壽命。

5、良好的耐磨性。

6、能降低綜合系統(tǒng)成本,業(yè)已證實投資得到回報。


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